[경기] 2026년 반도체 소부장기업 실증(장비사용료) 지원사업 참여기업 모집 공고

사업 배경 및 목적

이 사업은 반도체 장비 확보에 어려움을 겪는 화성시 관내 반도체 소·부·장(소재·부품·장비) 분야 중소·중견기업을 대상으로 한국나노기술원과의 연계를 통해 실증(장비사용료)을 지원함으로써, 이들 기업의 인프라 접근성을 높이고 제품화 촉진에 기여하는 것을 목적으로 합니다.

지원 대상 및 요건

• 지원 대상

  • 화성시 관내 반도체 소·부·장 분야 중소·중견기업

• 필수 요건

  • 본사, 공장, 연구소 중 1개 이상이 화성시 소재여야 합니다.

• 반도체 소·부·장 분야 정의

  • 웨이퍼 제조에서부터 노광, 식각, 증착, 세정, 패키징 등 전·후공정에 필요한 소재·부품·장비를 의미하며, 이는 '소재·부품·장비산업 경쟁력 강화 및 공급망 안정화를 위한 특별조치법 시행령' 제2조의 소재·부품·장비산업 대상 업종 분야의 제조기업에 해당합니다.

• 신청 제외 대상

  • 신청서 등 제출서류에 허위 기재가 발견된 경우
  • 화성산업진흥원의 동일 지원내용 사업에 동일 과제로 기 수혜 이력이 있거나 이미 지원받고 있는 기업
  • 사업기간 내 타 지역으로 이전 예정인 기업
  • 정부 및 지역 지원사업 참여 제재 중인 기업
  • 국세 또는 지방세 체납 중인 경우
  • 금융기관 등으로부터 채무불이행으로 규제 중인 경우
  • 휴·폐업 혹은 파산·개인회생절차의 개시 신청이 이루어진 경우
  • 숙박 및 음식점업, 부동산업 및 임대업, 오락업 및 문화업, 공공, 수리 및 기타서비스업에 해당하는 기업
  • 근로기준법에 따라 고용노동부가 공개하는 체불사업주 명단에 포함된 경우
  • 최근 1년 이내 공정거래위원회로부터 불공정거래행위 위반자로 통보받은 경우
  • '보조금 관리에 관한 법률'에 따라 수행 대상에서 배제된 경우
  • 기타 화성산업진흥원장이 참여를 제한할 정당한 사유가 있다고 인정하는 경우

• 지원 제한 대상

  • 2026년 반도체 소부장기업 실증(시제품 제작) 지원사업과 중복 수혜는 제한됩니다.

지원 내용 및 규모

• 지원 내용

  • 반도체 장비 확보가 어려운 관내 소부장기업에 성능평가, 검증 등에 소요되는 장비 사용료를 지원합니다. 이때, 한국나노기술원 장비 활용이 필수입니다.

• 지원 규모

  • 총 20개사를 선정하며, 기업당 최대 9,000천원(부가가치세 제외)을 지원합니다.
  • 산정된 지원금이 상위 구간의 최대 지원금액보다 낮아질 경우, 직전 구간의 최대 지원금액을 보장하는 규정이 적용됩니다.

• 금액대별 지원율 및 지원금액 (총 사용금액 공급가액 기준)

  • 100만원 이하: 지원율 100%, 최대 지원금액 1,000,000원 (7개사)
  • 100만원 초과~200만원 이하: 지원율 90%, 최대 지원금액 1,800,000원 (5개사)
  • 200만원 초과~500만원 이하: 지원율 80%, 최대 지원금액 4,000,000원 (5개사)
  • 500만원 초과: 지원율 70%, 최대 지원금액 9,000,000원 (3개사)

• 지원금 사용 기간

  • 사업 공고일(2026. 2. 26.)부터 2026. 10. 31.(토)까지, 약 8개월 내외입니다.

• 한국나노기술원 실증 장비 목록 (주요 서비스 분야)

  • 나노 리소그래피: E-beam lithography, Nano Imprint, KrF/I-line Stepper, Mask Aligner 등 정밀 패터닝 및 노광 공정 장비.
  • 나노 R&D (증착/식각/열처리/세정 등): E-beam evaporator, HDP-CVD, ICP etcher, RTA, Wet-station, Furnace 등 다양한 박막 증착, 식각, 열처리, 세정 공정 장비.
  • 산업화 지원 (대량 생산 공정): E-beam evaporator, Sputter System, PECVD, ICP etcher, RIE, Plating Machine 등 산업화 및 대량 생산 공정용 장비.
  • MEMS/Back End (후공정/측정/분석): Dicing Machine, Wafer bonder, Wire-bonder, Grinding, Lapping and Polishing 등 후공정 장비와 FE SEM, AFM, FIB, TEM, XRD, Spectrophotometer 등 첨단 분석 및 측정 장비.
  • 소자 특성 평가/MOCVD/Wafer Cleaning: Solar simulator, Photoluminescence, Hall effect, MOCVD (GaAs/GaN 에피), Wafer Wet Cleaning/Etching 등 소자 특성 평가 및 특정 공정 장비.
  • 각 장비의 이용료는 직접사용 및 기술원 의뢰 공정에 따라 시간당, 웨이퍼당, 회당, 로트당 등 다양하게 책정되어 있으며, 상세한 장비 정보 및 요금은 별도 첨부된 '한국나노기술원 실증 장비지원 목록'을 참조하시기 바랍니다.

신청 방법 및 제출 서류

• 모집 기간

  • 2026. 2. 26.(목)부터 2026. 3. 26.(목) 18:00까지입니다.

• 신청 방법

  • 화성시 기업지원플랫폼을 통한 온라인 접수로 진행됩니다.

• 제출 서류

  • 지정 양식: 2026년 반도체 소부장기업 실증(장비사용료) 지원사업 신청서, 사업 계획서, 개인정보 수집·이용·제공 동의서, 청렴서약서.
  • 필수 제출 서류 (원본 또는 사본):
    • 중소 또는 중견기업 확인서 (공고 게시일 이후 유효한 경우)
    • 소재·부품·장비 전문기업확인서 (공고 마감일 기준 유효한 경우)
    • 사업자등록증 또는 사업자등록증명원 / (법인) 법인등기부등본 (최근 3개월 이내 발급분, 법인 전환 시 최초 사업자등록증과 법인등기부등본 모두 제출)
    • 화성시 소재 증빙서류 택1: 공장등록증 (공고 게시일 이후 관내 공장등록), 또는 기업부설연구소/연구개발전담부서 인정서 (공고 게시일 이후 유효)
    • 국세·지방세 완납 증명서 (공고 게시일 이후 발급분)

선정 절차 및 일정

• 전반적인 추진 일정

  • 참여기업 모집·선정: 2026년 2월 ~ 4월 (진흥원)
  • 성능평가 및 검증: 2026년 4월 ~ 10월 (기술원-기업)
  • 지원금 지급: (1차) 2026년 8월, (2차) 2026년 11월 (실증 기간에 따라 선택 가능)
  • 결과보고: 2026년 11월 (기업→진흥원)
  • 성과공유회: 2026년 12월 (진흥원-기술원-기업, 필히 참여해야 함)

• 선정 방식 및 평가 기준

  • 선정 방식: 서류평가를 통해 최종 선정합니다.
  • 평가 기준: 적격 여부, 장비 활용 필요성 및 적합성 (30점), 계획의 구체성 (30점), 사업 수행 역량 및 준비도 (15점), 예산 산정의 적정성 (25점)을 종합적으로 고려하여 평가합니다.
  • 선정 기준: 심사위원 평균점수 70점 이상인 기업 중 고득점순으로 선정하며, 동점일 경우 '장비 활용 필요성 및 적합성 > 계획의 구체성 > 사업 수행 역량 및 준비도 > 예산 산정의 적정성' 순으로 상위 항목의 고득점 기업을 우선 선정합니다.

• 서류 평가

  • 평가 방식: 외부 평가위원회의 사업계획서 등 평가를 통해 최종 선정합니다.
  • 평가 일정: 접수 마감 이후 약 1주 내외 소요됩니다.
  • 결과 공고: 화성시 기업지원플랫폼 알림마당-공고 게시판에 공고됩니다.

문의처

• (재)화성산업진흥원 공급망지원팀
• 이메일: se20@hsbiz.or.kr
• 전화: 031-278-4388